Termékek jellemzői:

Az argon-ion csiszorító rendszer egy asztali mintakészítő berendezés, amely a minták szegmentális előkészítésére és sík csiszolására szolgál, így a minták vizsgálati elemzése SEM-en és más berendezéseken történik. Az Ilion II segítségével csiszolható anyagok széles választéka, beleértve a többelemes mintákat, ötvözeteket, félvezetőanyagokat, polimereket és ásványokat, amelyek különböző mechanikai keménységgel, méretekkel és fizikai tulajdonságokkal rendelkeznek. SEM, EBSD minták különböző anyagok, mint például hegesztési vágások, integrált áramkör hegesztési pontok, többrétegű vékony film vágások, részecskék, szál vágások, kompozit anyagok, kerámia, fémek és ötvözetek, kőásványok és egyéb szervetlen nem fémek.

A termék fő műszaki paraméterei:

1. Ionpistol: Két ritka földi mágneses háromszerkezetű (katód, anód és fókuszált pód) Penning ionpisztoly, fókuszált ioncsapat tervezés, nagy teljesítményű fogyasztási anyagok nélküli

Polírozási szög: +10°-tól -10°-ig, minden ionpisztoly függetlenül állítható

Ionszag energia: 100 V és 8,0 kV között

4. Ion áramlási sűrűség: 10 mA / cm2 csúcs

Polírozási sebesség: 300 μm / h (szilícium minta esetén 8,0 kV körülmények között)

6. minta-terhelés: Ilion minta-blokk, egyszerű minta-terhelés, pontos, újrahasznosítható helyzet, a Sample Stub közvetlenül megfigyelhető a SEM-ben

Minta forgása: 0,5-6 rpm folyamatosan állítható

8. Csapat áramlási moduláció: Ion Csapat modulációs funkció, amely szektoralakú szakasz csiszolás (szektoralakú szög 10-90 fok állítható) és sík csiszolás

Mintámegfigyelés: Digitális zoom mikroszkóp PC és Digital Micrograph szoftverrel, amely valós idejű képalkotást (300x-2200 x) és képtárolást és elemzést biztosít a Gatan Digital Micrograph szoftverrel

10. folyékony nitrogén hűtőszekrény: konfiguráció folyékony nitrogén hűtőszekrény, minta zui alacsony hőmérséklet akár -120 ° C, hatékonyan csökkenti a károsodás ionsugár minta

Vákuum rendszer:

11. száraz szivattyú rendszer: kétszintű membránszivattyú támogatja a 80 liter / s turbomolekula szivattyú

12. Nyomás: 5x10-6 pálya alapnyomás, 8.5x10-5 pálya munkanyomás

13. vákuum szabályozó: hideg katódos típusú, a fő minta szoba; Első mechanikai szivattyúkhoz szilárd típusú

14. minta levegő zár: Whisperlok tervezés, minta cseréje ideje <1min, anélkül, hogy törni minta szoba vákuum

Felhasználói felület:

15,10 hüvelykes érintőképernyő: Egyszerű kezelés és teljesen programozható az összes paraméter vezérlése a recept műveletéhez.

16. Működési mód: testreszabja a különböző feldolgozási paraméterek kombinációját egy kattintással történő művelet megvalósítása érdekében.

A termékek fő alkalmazási területei:

EBSD mintakészítés

Szektív minta előkészítése

Fémanyagok (ötvözetek, bevonatok)

Olajgeológiai sziklaásványok

Fotoelektronikai anyagok

Kémiai polimer anyagok

Új energia akkumulátor anyagok

Elektronikus félvezető berendezések

PCB áramkör verzió szakasz csiszolás SEM diagram

Horganyzott acéllemez fészítése

Zn gabonák

Fe gabonák